Investigation of post-treatment with atmospheric pressure plasma on metal oxide thin films deposited by mist CVD
Investigation of post-treatment with atmospheric pressure plasma on metal oxide thin films deposited by mist CVD
复制标题
大气压等离子体对雾气CVD沉积金属氧化物薄膜后处理的研究
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Mineo Hiramatsu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hiroya Kobayashi;Keigo Takeda;Mineo Hiramatsu
