Modeling studies of the chemical vapor deposition of boron films from B2H6
Modeling studies of the chemical vapor deposition of boron films from B2H6
复制标题
B2H6 硼薄膜化学气相沉积的模拟研究
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2006.11.253
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发表时间：
2007
影响因子：
1.8
通讯作者：
J. Redwing
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Lamborn;D. Snyder;X. Xi;J. Redwing
