Evaluation of Anisotropic Stress Relaxation in Mesa-shaped Strained Si Layer by Super-resolution Raman Spectroscopy and FEM Simulation
Evaluation of Anisotropic Stress Relaxation in Mesa-shaped Strained Si Layer by Super-resolution Raman Spectroscopy and FEM Simulation
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通过超分辨率拉曼光谱和有限元模拟评估台面形应变硅层中的各向异性应力松弛
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and A. Ogura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Tomita;D. Kosemura;K. Usuda;T. Tezuka;and A. Ogura
