C/Ge/Si(100)構造におけるサブ原子層カーボンとGe成長温度のGe薄膜形成への影響
C/Ge/Si(100)構造におけるサブ原子層カーボンとGe成長温度のGe薄膜形成への影響
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亚原子层碳和Ge生长温度对C/Ge/Si(100)结构Ge薄膜形成的影响
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
鷲尾勝由
中科院分区：
文献类型：
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作者：
伊藤友樹;畠山真慈;川島知之;鷲尾勝由
