シリカ, 硫酸, 塩化物, 重炭酸イオンを含む人工淡水中での定電位保持試験による銅管の孔食発生挙動

シリカ, 硫酸, 塩化物, 重炭酸イオンを含む人工淡水中での定電位保持試験による銅管の孔食発生挙動
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含二氧化硅、硫酸、氯离子、碳酸氢根离子的人工淡水中铜管恒电位保持试验的点蚀发生行为

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
銅と銅合金 47
影响因子:
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通讯作者:
世利修美
世利修美
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
境昌宏;小池美智男;世利修美

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