Ultralow-Energy Boron-lon Implantation of silicon

Ultralow-Energy Boron-lon Implantation of silicon
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硅的超低能硼注入

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics 47
影响因子:
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通讯作者:
Kazuhiro Yamamoto and Hiroshi Itoh
Kazuhiro Yamamoto and Hiroshi Itoh
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
本儀達寛;大森達也;橋本研也;山口正恆;Kazuhiro Yamamoto and Hiroshi Itoh;Kazuhiro Yamamoto and Hiroshi Itoh

文献摘要

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