A Contour-Lithography-Method for Rapid and Precise Deep-Etched Nano-MEMS Structure Fabrication

A Contour-Lithography-Method for Rapid and Precise Deep-Etched Nano-MEMS Structure Fabrication
复制标题

一种用于快速、精确深蚀刻纳米 MEMS 结构制造的轮廓光刻方法

DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
In Proc. of International Conference on Solid-State Sensors and Actuators and Microsystems (Transducers 2005), Seoul 2
影响因子：
--
通讯作者：
Tadashi Shibata
Tadashi Shibata
中科院分区：
--
文献类型：
--
作者：
Masanori Kubota;Yoshio Mita;Frederic Marty;Tarik Bourouina;Tadashi Shibata

文献摘要

被引文献

相似文献