佐藤卓: "「急速熱窒化技術による極薄シリコン窒化膜成長とその電気的特性評価」"電子情報通信学会技術研究報告「電子部品・材料」 CPM98-59. 98巻. 1-6 (1998)
佐藤卓: "「急速熱窒化技術による極薄シリコン窒化膜成長とその電気的特性評価」"電子情報通信学会技術研究報告「電子部品・材料」 CPM98-59. 98巻. 1-6 (1998)
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Takashi Sato：“‘使用快速热氮化技术生长超薄氮化硅薄膜及其电性能评估’”IEICE 技术研究报告《电子元件和材料》CPM98-59 Vol. 1998 ）
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