Iridium-coated micropore x-ray optics using dry etching of a silicon wafer and atomic layer deposition
Iridium-coated micropore x-ray optics using dry etching of a silicon wafer and atomic layer deposition
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使用硅晶片干法蚀刻和原子层沉积的铱涂层微孔 X 射线光学器件
DOI：
10.1364/ao.52.005949
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ogawa;et al.
