T.Yamashiro et al.: "Super Self-Aligned Technology of Ultra-Shallow Junction in MOSFETs Using Selective Si_<1-x>Ge_x CVD"Materials Science and Engineering B. Vol.89,Issues 1-3. 120-124 (2002)
T.Yamashiro et al.: "Super Self-Aligned Technology of Ultra-Shallow Junction in MOSFETs Using Selective Si_<1-x>Ge_x CVD"Materials Science and Engineering B. Vol.89,Issues 1-3. 120-124 (2002)
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T.Yamashiro等人：“使用选择性Si_<1-x>Ge_x CVD的MOSFET中超浅结的超级自对准技术”材料科学与工程B.第89卷，第1-3期。
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