Film growth of Ge1−xMnxTe using ionized-cluster beam technique
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DOI：
10.1016/s1386-9477(01)00098-4
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发表时间：
2001-05
影响因子：
3.3
通讯作者：
Y. Fukuma;T. Murakami;H. Asada;T. Koyanagi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Fukuma;T. Murakami;H. Asada;T. Koyanagi
