A transmission electron microscope study of microstructural development in magnetron-sputtered MoSi2 thin films

A transmission electron microscope study of microstructural development in magnetron-sputtered MoSi2 thin films
复制标题

DOI:
10.1016/s0966-9795(02)00035-3
复制
发表时间:
2002-09
期刊:
影响因子:
4.4
通讯作者:
X. Y. Wang;I. Chang;M. Aindow
X. Y. Wang;I. Chang;M. Aindow
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
X. Y. Wang;I. Chang;M. Aindow

文献摘要

被引文献

相似文献