化学溶液堆積法を用いてSi 基板上に作製した(La1-xSrx)MnO3-δ薄膜の製膜条件と熱放射率の関係
化学溶液堆積法を用いてSi 基板上に作製した(La1-xSrx)MnO3-δ薄膜の製膜条件と熱放射率の関係
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化学溶液沉积法在Si衬底上制备(La1-xSrx)MnO3-δ薄膜的沉积条件与热发射率关系
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
太刀川純孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
森祐子;渡瀬彩登;塩田忠;西山昭雄;クロスジェフリー;櫻井修;篠崎和夫;脇谷尚樹;東慎太郎;太刀川純孝
