Si基板上III-V族化合物半導体ナノワイヤの成長と応用
Si基板上III-V族化合物半導体ナノワイヤの成長と応用
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Si衬底上III-V族化合物半导体纳米线的生长及应用
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山口雅史，白 知鉉，田畑拓也，中川慎太，本田善央，天野 浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jingtao Xu;Jiazhen Wu;Yoichi Tanabe;Satoshi Heguri;Gang Mu;Hidekazu Shimotani;and Katsumi Tanigaki;山口雅史，白 知鉉，天野 浩;山口雅史，白 知鉉，田畑拓也，中川慎太，本田善央，天野 浩
