K.Nakamura, K.Yoshino and I.Shimizu: "Fabrication of High Quality a-Si : H by Chemical Annealing" Proc.12th Symp.on Plasma Process.453-456 (1995)
K.Nakamura, K.Yoshino and I.Shimizu: "Fabrication of High Quality a-Si : H by Chemical Annealing" Proc.12th Symp.on Plasma Process.453-456 (1995)
复制标题
K.Nakamura、K.Yoshino 和 I.Shimizu：“通过化学退火制造高质量非晶硅：H”Proc.12th Symp.on Plasma Process.453-456 (1995)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
