Study on Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP520A
Study on Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP520A
复制标题
高感度氯化光刻胶ZEP520A分解机理研究
DOI：
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发表时间：
2012
影响因子：
2.3
通讯作者：
and Seiichi Tagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tomoko Gowa Oyama;Kazuyuki Enomoto;Yuji Hosaka;Akihiro Oshima;Masakazu Washio;and Seiichi Tagawa
