Electron Beam Lithography Simulation for Nanometer-scale Patterning
Electron Beam Lithography Simulation for Nanometer-scale Patterning
复制标题
纳米级图案化的电子束光刻模拟
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Kawata and Y. Hirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Michishita;M. Yasuda;H. Kawata and Y. Hirai
