Control of Ge/High-k Interface for Ge CMOS Technology
Control of Ge/High-k Interface for Ge CMOS Technology
复制标题
Ge CMOS 技术的 Ge/High-k 界面控制
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Kita;S.K.Wang;T.Tabata;C.H.Lee;T.Nishimura;K.Nagashio;A.Toriumi
