a-C:F films deposition by C_8F_18/Ar plasma CVD and their electrical and chemical properties

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C_8F_18/Ar等离子体CVD沉积a-C:F薄膜及其电学和化学性能

DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Proc. of 13th Asian Conf. on Electrical Discharge P2-11
影响因子：
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通讯作者：
H. Sugawara and S. Tazawa
H. Sugawara and S. Tazawa
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
H. Koike;Y. Sakai;Y. Suda;H. Sugawara and S. Tazawa

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