Effects of Substrate temperature on Crystal Quality of (ZnO)x(InN)1-x Films Fabricated by Sputter Epitaxy
Effects of Substrate temperature on Crystal Quality of (ZnO)x(InN)1-x Films Fabricated by Sputter Epitaxy
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衬底温度对溅射外延制备(ZnO)x(InN)1-x薄膜晶体质量的影响
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Kaneshima;N. Miyahara;D. Yamashita;K. Kamataki;K. Koga;M. Shiratani;N. Itagaki
