X-ray photoelectron spectroscopy study of dipole effects at HfO2/SiO2/Si stacks
X-ray photoelectron spectroscopy study of dipole effects at HfO2/SiO2/Si stacks
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HfO2/SiO2/Si 叠层偶极子效应的 X 射线光电子能谱研究
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L.Q.Zhu;K.Kita;T.Nishimura;K.Nagashio;S.K.Wang;A.Toriumi
