Transport Properties of Topological Insulators with Cobalt Films Deposited on their Surface
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复制标题
表面沉积钴膜的拓扑绝缘体的输运特性
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
江藤数馬
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Souma;K.Eto;M.Nomura;K.Nakayama;T.Sato;T.Takahashi;Kouji Segawa;Yoichi Ando;江藤数馬;江藤数馬;江藤数馬
