New RF Helicon- Plasma Devices for Various Applications
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适用于各种应用的新型 RF Helicon- 等离子体设备
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takao Tanikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
谷川隆夫;山際啓一郎;船木一幸;佐藤杉弥;篠原俊二郎;S. Shinohara and S. Horii;谷川 隆夫;谷川 隆夫;Shunjiro Shinohara;本村大成;本村大成;谷川隆夫;本村大成;本村 大成;本村大成;谷川隆夫;本村大成;本村大成;本村大成;Takao Tanikawa;Taisei Motomura;Takao Tanikawa;Taisei Motomura;Taisei Motomura;Taisei Motomura;本村大成;本村大成;Takao Tanikawa;Taisei Motomura;Takao Tanikawa;Taisei Motomura;Takao Tanikawa;Takao Tanikawa;本村大成;本村大成;本村 大成;本村大成;Takao Tanikawa
