Toyonobu Yoshida: "“The future of thermal plasma processing for coating"" Pure & Appl.Chem.66. 1223-1230 (1994)
Toyonobu Yoshida: "“The future of thermal plasma processing for coating"" Pure & Appl.Chem.66. 1223-1230 (1994)
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Toyonobu Yoshida：“涂层热等离子体处理的未来”Pure & Appl.Chem.66 (1994)。
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