T.Hattori, K.Takahashi, H.Nohira: "The initial growth steps of ultrathin gate oxides"Microelectronic Engineering. 48. 17-24 (1999)
T.Hattori, K.Takahashi, H.Nohira: "The initial growth steps of ultrathin gate oxides"Microelectronic Engineering. 48. 17-24 (1999)
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T.Hattori、K.Takahashi、H.Nohira：“超薄栅极氧化物的初始生长步骤”微电子工程。
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