Fe2VAl0.9Si0.1/Cu 傾斜積層熱電デバイスの設計および評価
Fe2VAl0.9Si0.1/Cu 傾斜積層熱電デバイスの設計および評価
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Fe2VAl0.9Si0.1/Cu梯度叠层热电器件的设计与评估
DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
小平直人,生出 嘉,林 慶,宮﨑 讓
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Naoto Kodaira;Yoshimi Oide;Kei Hayashi;Yuzuru Miyazaki;小平直人,生出 嘉,林 慶,宮﨑 讓