Electrostatic ink-jet deposition using a nanopipette for photomask repair
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使用纳米移液器进行静电喷墨沉积进行光掩模修复
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
F. Iwata, H. Ui, and T. Tojo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Iwata;K. Yamazaki1;K. Ishizaki;and T. Ushiki;J. Metoki, and F. Iwata;F. Iwata, H. Ui, and T. Tojo
