Observation of Crystalline Imperfections in Supercritical Thickness Strained Silicon on Insulator Wafers by Synchrotron X-ray Topography
Observation of Crystalline Imperfections in Supercritical Thickness Strained Silicon on Insulator Wafers by Synchrotron X-ray Topography
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同步辐射X射线形貌观察绝缘体晶片上超临界厚度应变硅的晶体缺陷
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Shimura;T.Inoue;Y.Okamoto;T.Hosoi;H.Edo;S.Iida;A.Ogura;H.Watanabe
