Hisashi Fukuda: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"Meeting Abstracts on the 199^<th> Meeting of the Electrochemical Society,2001,Washington DC. (2001年3月27日発表予定). (2001)
Hisashi Fukuda: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"Meeting Abstracts on the 199^<th> Meeting of the Electrochemical Society,2001,Washington DC. (2001年3月27日発表予定). (2001)
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Hisashi Fukuda：“SiO_2 薄膜中嵌入的 Ge 纳米晶体的表征”电化学学会第 199 次会议摘要，2001 年，华盛顿特区（计划于 2001 年 3 月 27 日发表）。
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