高密度中圧プラズマを用いた極薄シリコンウエハ用ゲッタリング層の形成とその特性評価
高密度中圧プラズマを用いた極薄シリコンウエハ用ゲッタリング層の形成とその特性評価
复制标题
高密度中压等离子体超薄硅片吸杂层形成及其特性评价
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
野村俊光，垣内弘章，安武 潔，大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Obonai Akiyoshi;Kogawa Takuma;Kanda Yuki;Oluwafemi Oluwatobi S.;Kodama Tetsuya;Komiya Atsuki;野村俊光，垣内弘章，安武 潔，大参宏昌
