M.Tabe: "Nanometer scale local oxidation of silicon using silicon nitride islands formed in the early stages of nitridation" Applied Physics Letters. vol.69-15. 2222-2224 (1996)
M.Tabe: "Nanometer scale local oxidation of silicon using silicon nitride islands formed in the early stages of nitridation" Applied Physics Letters. vol.69-15. 2222-2224 (1996)
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M.Tabe：“利用氮化早期形成的氮化硅岛对硅进行纳米级局部氧化”《应用物理快报》。
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