Effect of Temperature on Electrodeposition of Ti Films in Fluoride-Chloride Mixture Melt
Effect of Temperature on Electrodeposition of Ti Films in Fluoride-Chloride Mixture Melt
复制标题
温度对氟化物-氯化物混合熔体中电沉积钛膜的影响
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toshiyuki Nohira
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yutaro Norikawa;Kouji Yasuda;Koma Numata;Mitsuyasu Ogawa;Masatoshi Majima;Toshiyuki Nohira
