RFスパッタリング法によるSiC薄膜の作製と水素透過挙動
RFスパッタリング法によるSiC薄膜の作製と水素透過挙動
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射频溅射法制备SiC薄膜及氢渗透行为
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
寺井隆幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
近田拓未;鈴木晶大;寺井隆幸
