磁場印可によるＸ線CCDの性能向上
磁場印可によるＸ線CCDの性能向上
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通过施加磁场提高 X 射线 CCD 的性能
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
近藤恵介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Hayashida;H. tsunami;T. G. Tsuru;T. Dotani;他22名;堂谷忠靖;K. Kondo,T. Dotani,M. Ozaki,M. Iwai;村上弘志,堂谷忠靖,尾崎正伸,他20名;近藤恵介,堂谷忠靖,尾崎正伸,岩井将親;平賀純子,常深博,林田清,穴吹直久,中嶋大,薙野綾,堂谷忠靖,尾崎正伸,他15名;近藤恵介
