Sputter-Deposited ZnO Films with aid of Chemical reactivity of Oxygen Atoms
Sputter-Deposited ZnO Films with aid of Chemical reactivity of Oxygen Atoms
复制标题
利用氧原子的化学反应性溅射沉积 ZnO 薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Morita;F. Watanabe;H. Shirai
