G.Tochitani: "DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILM BY LOW FREQUENCY PLASMA CVD USING TEOS" Proceedings of the 7th Symposium on Plsama Processing. 7. 433-436 (1990)
G.Tochitani: "DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILM BY LOW FREQUENCY PLASMA CVD USING TEOS" Proceedings of the 7th Symposium on Plsama Processing. 7. 433-436 (1990)
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G.Tochitani：“使用 TEOS 通过低频等离子体 CVD 沉积氧化硅薄膜”第七届等离子加工研讨会论文集。
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