Y.Hoshi and M.Naoe: "Deposition of FeーN films by means of an opposed targets sputtering type plasma source." J.Appl.Phys.69(8). 5622-5624 (1991)
Y.Hoshi and M.Naoe: "Deposition of FeーN films by means of an opposed targets sputtering type plasma source." J.Appl.Phys.69(8). 5622-5624 (1991)
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Y.Hoshi 和 M.Naoe：“通过对置靶溅射型等离子体源沉积 Fe-N 薄膜。”J.Appl.Phys.69(8) 5622-5624 (1991)。
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