Y.Ishikawa, M.Kumezawa, R.Nuryadi, M.Tabe: "Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer"Applied Surface Science. vol.19. 11-15 (2002)
Y.Ishikawa, M.Kumezawa, R.Nuryadi, M.Tabe: "Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer"Applied Surface Science. vol.19. 11-15 (2002)
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Y.Ishikawa、M.Kumezawa、R.Nuryadi、M.Tabe：“图案化对超薄绝缘体上硅层热团聚的影响”应用表面科学。
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