微傾斜基板を用いた伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)ヘテロ構造のモフォロジー及び素子特性
微傾斜基板を用いた伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)ヘテロ構造のモフォロジー及び素子特性
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使用稍微倾斜衬底的拉伸应变 Si/松弛 SiGe/Si(110) 异质结构的形貌和器件性能
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
澤野憲太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宇津山直人;佐藤圭;山田 崇峰;有元圭介;山中淳二;中川清和;原康介;宇佐美徳隆;澤野憲太郎
