電子スピン共鳴法によるSi酸化膜中欠陥のアニール挙動
電子スピン共鳴法によるSi酸化膜中欠陥のアニール挙動
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利用电子自旋共振法研究硅氧化膜缺陷的退火行为
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安部信行，松井洋輔，石山 武，上浦洋一，山下善文
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. E. Balderas-Navarro;N. A. Ulloa-Castillo;K. Arimoto;G. Ramierz-Melendez;L. F. Lastras-Martinez;H. Furukawa;J. Yamanaka;A. Lastras-Martinez;J. M. Flores-Camacho;N. Usami;D. Stifter;K. Hingerl;藤田直人，斉藤広伸，今井亮太，富樫理恵，村上尚，熊谷義直，纐纈明伯;安部信行，松井洋輔，石山 武，上浦洋一，山下善文
