Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition : Effect of vacuum annealing
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微波等离子体化学气相沉积合成硼掺杂金刚石薄膜的场发射研究：真空退火的影响
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R.Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P.M.Koinkar;D.Yonekura;T.G.Kim;M.A.More;R.Murakami;R.Murakami
