Feedback control of surface roughness in sputtering processes using the stochastic Kuramoto-Sivashinsky equation
Feedback control of surface roughness in sputtering processes using the stochastic Kuramoto-Sivashinsky equation
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使用随机 Kuramoto-Sivashinsky 方程对溅射过程中的表面粗糙度进行反馈控制
DOI：
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发表时间：
2005
影响因子：
4.3
通讯作者：
P. Christofides
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yiming Lou;P. Christofides
