ラビングによるペンタセン配向膜の作製と表面プラズモン励起による評価

ラビングによるペンタセン配向膜の作製と表面プラズモン励起による評価
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摩擦法制备并五苯取向薄膜及表面等离子体激发评价

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会予稿集 P-18
影响因子:
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通讯作者:
島岡 徹
島岡 徹
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.;Munakata;S.I.;Aoqui;小林 博彰;山本 哲也;島岡 徹

文献摘要

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