Functionalization of few-layer tungsten diselenide with mild O2 plasma treatment
Functionalization of few-layer tungsten diselenide with mild O2 plasma treatment
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采用温和 O2 等离子体处理的少层二硒化钨功能化
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Kaneko
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Nagai;T. Kato;T. Takahashi;and T. Kaneko
