日本企業における海外R&D拠点の立地と所有戦略の変化 ―エレクトロニクス関連産業の分析―
日本企業における海外R&D拠点の立地と所有戦略の変化 ―エレクトロニクス関連産業の分析―
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日本企业海外研发基地布局及归属策略的变化 - 电子相关产业分析 -
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
竹中厚雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takao Nomakuchi;Suguru Yanata;Kaori Ishibashi;野間口隆郎;Takao Nomakuchi;野間口隆郎;Takao Nomakuchi;Takao Nomakuchi;Takao Nomakuchi;Takao Nomakuchi;Takao Nomakuchi;野間口隆郎;Takao Nomakuchi;田中広美;松隈久昭;野間口隆郎;松隈久昭;野間口隆郎;竹中厚雄
