中村雅一: "Infrared characterization of interface states reduction by F_2 treatment in SiO_2/Si structure using photo-CVD SiO_2 film" Japanese Journal of Applied Physics. (1990)
中村雅一: "Infrared characterization of interface states reduction by F_2 treatment in SiO_2/Si structure using photo-CVD SiO_2 film" Japanese Journal of Applied Physics. (1990)
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Masakazu Nakamura：“使用光CVD SiO_2 薄膜通过F_2 处理SiO_2/Si 结构中的界面态减少的红外表征”日本应用物理学杂志（1990）。
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