Rate analysis of chemical vapor deposition by use of the thin tubular reactor
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薄管反应器化学气相沉积速率分析
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kouichi Miura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Motoaki Kawase;Kouichi Miura
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热梯度化学气相渗透法制备碳化硅晶须/氧化铝复合材料
DOI：
10.1111/j.1151-2916.1999.tb02256.x
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Tago;M. Kawase;Kenshi Morita;K. Hashimoto
通讯作者：
K. Hashimoto
用于生产碳化硅晶须/氧化铝复合材料的热梯度化学气相渗透工艺的建模
DOI：
10.1016/s0009-2509(05)80065-x
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Kawase;Y. Ikuta;T. Tago;T. Masuda;K. Hashimoto
通讯作者：
K. Hashimoto
二氯二甲基硅烷前驱体化学气相沉积碳化硅的动力学研究
DOI：
10.1149/1.1838451
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Takeuchi;Y. Egashira;T. Osawa;H. Komiyama
通讯作者：
H. Komiyama
纤维增强陶瓷复合材料热梯度化学气相渗透生产过程的数值模拟
影响因子：
4.7
作者：
T. Tago;M. Kawase;Y. Ikuta;K. Hashimoto
通讯作者：
K. Hashimoto
非等温CVD反应器氧化铝化学气相沉积生长动力学的数值分析方法
DOI：
10.1252/kakoronbunshu.26.763
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Tago;M. Kawase;K. Hashimoto
通讯作者：
K. Hashimoto