Atsushi Masuda 他5名: "Novel deposition technique of Er-doped a-Si:H combining catalytic CVD and pulsed laser ablation"Journal of Non-Crystalline Solids. (印刷中). (2000)
Atsushi Masuda 他5名: "Novel deposition technique of Er-doped a-Si:H combining catalytic CVD and pulsed laser ablation"Journal of Non-Crystalline Solids. (印刷中). (2000)
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Atsushi Masuda 和其他 5 人：“结合催化 CVD 和脉冲激光烧蚀的掺铒 a-Si:H 的新型沉积技术”非晶固体杂志（2000 年）。
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