細胞ストレスのイメージングを目指した糖鎖修飾量子ドットの作製
細胞ストレスのイメージングを目指した糖鎖修飾量子ドットの作製
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用于细胞应激成像的糖基化量子点的制造
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
新倉 謙一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Fujita;et. al.;新倉 謙一
