Tunable and scalable fabrication of plasmonic dimer arrays with sub-10 nm nanogaps by area-selective atomic layer deposition
Tunable and scalable fabrication of plasmonic dimer arrays with sub-10 nm nanogaps by area-selective atomic layer deposition
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通过区域选择性原子层沉积可调谐和可扩展地制造具有亚 10 nm 纳米间隙的等离子体二聚体阵列
DOI：
10.1116/6.0001205
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发表时间：
2021
影响因子：
1.4
通讯作者：
Willis, Brian
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhang, Chengwu;Gao, Tuo;Sheets, Donal;Hancock, Jason N.;Tresback, Jason;Willis, Brian
